Peralatan ini menggunakan laser solid-state dengan panjang gelombang 1030nm, yang sangat ideal untuk etsa garis halus pada kaca konduktif dan pelapis. Ini menggunakan perangkat lunak kontrol yang dikembangkan sendiri yang memungkinkan impor langsung data CAD untuk etsa laser, membuat operasi ini sederhana, nyaman, dan cepat. Desain ini menggabungkan penyesuaian perangkat lunak waktu-nyata untuk galvanometer dan motor linier, bersama dengan tempat kerja pengangkat listrik, dilengkapi dengan perangkat baki hisap vakum, secara efektif memastikan stabilitas mesin etsa laser selama pemrosesan. Sistem penghilangan debu yang unik juga diintegrasikan untuk mempertahankan kebersihan kaca dan permukaan kerja, memastikan tidak ada residu selama proses etsa laser.
Fitur Utama:
Manufaktur lanjutan: Ini menawarkan fleksibilitas, presisi, dan kecepatan tinggi.
Efisiensi tinggi: Memastikan kapasitas produksi yang tinggi, meningkatkan efisiensi keseluruhan.
Hemat biaya: Produk ini dapat diandalkan, stabil, dan menawarkan kinerja tinggi dengan harga yang kompetitif.
Aplikasi luas: Mampu melakukan etsa berkecepatan tinggi dan berkecepatan tinggi untuk berbagai pola dan ukuran pada rentang besar.
Komponen utama:
Sistem ini terdiri dari laser, sistem jalur optik, sistem gerak, sistem kontrol, sistem penentuan posisi, sistem ekstraksi debu, sistem adsorpsi vakum, dan banyak lagi.
Parameter teknis:
| Pola | RS-ET1260 Solar Perovskite Battery Laser Etching Machine | ||
| Sumber laser | Laser femtosecond / picosecond | Laser nanosecond | |
| Panjang gelombang | 1030nm/532nm | 1064 nm | |
| Rentang pemrosesan | 1200 * 600mm% 2f600 * 500mm% 2f500 * 400mm | 1200 * 600mm% 2f600 * 500mm% 2f500 * 400mm | |
| Tempat balok terfokus | ＜10μm | ＜10μm | |
| Rentang tuning frekuensi laser | 20-5000 kHz | 100-500 kHz | |
| Lebar garis etsa minimum | ＜ 10 um |
|
|
| Akurasi mesin secara keseluruhan | ±15μm | ±20μm | |
| Jarak garis minimum | ＜10μm | ＜20μm | |
| Akurasi penentuan posisi meja kerja | ± 2um | ± 2um | |
| Akurasi pengulangan workbench | ± 1UM | ± 1UM | |
| Akurasi penentuan posisi otomatis CCD | ± 2um | ± 2um | |
| Kecepatan etsa | ＜ 4000mm/s | ＜ 4000mm/s | |
| Dimensi mesin | 1950mm × 1700mm × 1960mm | 1950mm × 1700mm × 1960mm | |
|
Format file yang didukung |
File DXF Versi CAD 2004 Standar | File DXF Versi CAD 2004 Standar | |
|
Berat mesin |
3500 kg | 3500kg | |
|
Catu daya |
220V 50% 2f60Hz | 220V 50% 2f60Hz | |
Industri yang berlaku:
Laser etsa pada substrat yang dilapisi seperti kaca, wafer silikon, keramik, film PET, dll., Umumnya digunakan dalam industri termasuk layar sentuh, sel surya fotovoltaik, kaca elektrokromik, kaca pintar, kaca luminescent, dan layar tampilan lainnya untuk pemrosesan etsa laser.
Digunakan dalam berbagai aplikasi
Laser etsa zirkonia & titanium oksida pada lapisan P2
Produk jadi baterai perovskite
Etsa laser FTO
ITO Laser Etsa
Laser etsa lapisan karbon pada P3
Tulisan laser kaca putih
